Les techniques de dépôt de couches minces et leurs applications
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Abstract
Plusieurs techniques de dépôt de couches minces sont développées, mais leurs applications peuvent être conditionnées par des conditions opératoires ou restreintes à une surface réduite de substrat. La technique ALD ‘Atomic Layer Deposition’ est une option idéale pour effectuer des dépôts de couches minces dans des conditions de température plus douce et de contrôle d’épaisseur de couches sur des substrats de grande surface. Elle peut être utilisée pour des applications variées en comparaison aux autres techniques.
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